消息称三星电子完成900层超高堆叠3D NAND闪存原型开发
国产高端光刻机关键突破！芯上微装首台350nm步进光刻机正式发运
标志着中国高端半导体装备产业迈入新阶段。
东方晶源基于坚实的计算光刻平台PanGen®推出了DBO套刻标记仿真优化产品PanOVL，可以对套刻标记从多个关键指标维度展开计算仿真。 PanOVL可以识别具有较大工艺窗口的套刻标记、给出满足良好信噪比并…
对此，有业内称，NSR-S636E可以直接光刻加工量产型5nm制程芯片，这个说法尽管有些夸张，但足见其在浸润式DUV光刻机市场的潜在实力。其光源使用的是日本gigaphoton公司（注：它是日本最大工程机械…
9 月 15 日消息，工业和信息化部于 9 月 9 日印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》通知，在文件列表包含国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩光刻机（65nm）的…
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