快科技8月17日消息，此前巴黎第一大学教授埃马纽埃尔孔博公开发表署名文章指出，美欧联合出台对华光刻机出口禁令的操作，最后反而会让美国和欧洲自己成为最大的输家，根本达不到他们最初想要遏制中国半导体产业发展的目的。
中国企业研发光刻机同样面对这一难关，但美国的制裁将许多进口设备挡在中国市场之外，国产自主设备获得了天然的市场空间。
中国虽然无法获得EUV光刻机，但仍可以通过增加DUV光刻机多重曝光（multiple patterning）的次数来制造先进芯片，只是良率会明显下降。
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