先进封装市场正以20%的复合增长率高速扩张。
新款光刻机，突破先进封装技术！明年上市
5 月 16 日消息，科技媒体 semimedia 昨日（5 月 15 日）发布博文，报道称三星电子计划将低端光掩模（photomask）生产外包，以腾出内部产能，专注于用于下一代存储芯片的先进光刻…
TheElec 报道称，三星准备将低端产品（i-line 365 纳米、KrF 248 纳米）进行外包，内部仅保留高端光掩模（ArF 193纳米、EUV 13.5 纳米），原 i-line / KrF 资…
12 月 27 日消息，DNP 大日本印刷当地时间本月 12 日宣布，成功在其光掩模制品上绘制了支持 2nm 及以下 EUV工艺的精细光掩模图案；同时该企业还完成了支持 High NA EUV 光…
龙图光罩作为国内领先的独立第三方半导体掩模版企业，凭借敏锐的市场洞察力和卓越的技术实力，以当前特色工艺半导体市场为切入点，紧扣国内半导体厂商生产需求，不断提升掩模版工艺技术水平和定制化服务能力，已逐步成为国…
晶合集成表示，光刻掩模版成功亮相，标志着该公司在晶圆代工领域成为台积电、中芯国际之后，可提供资料、光刻掩模版、晶圆代工全方位服务的综合性企业。晶合集成目前可提供 28-150 纳米的光刻掩模版服务，将于今…
晶合集成目前可提供 28-150纳米的光刻掩模版服务，将于今年四季度正式量产，服务范围包括光刻掩模版设计、制造、测试及认证等，计划为晶合客户提供 4 万片 / 年的产能支持。 查询公开资料获悉，晶…
于2002年8月由博客教父方兴东创立。作为中国博客发源地，汇聚国内众多具新锐思想的意见领袖，是中国最具影响力的博客平台。“每天5分钟，给思想加油”是我们的宗旨！
7 月 19 日消息，台积电在昨日举办的第 2 季度财报会议上，抛出了“晶圆代工2.0”概念，进一步将封装、测试、光掩模制造等领域纳入其中，希望重新定义代工产业。 魏哲家表示台积电 3 nm 和 …
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