他明确表示，中国大陆极有可能在这场AI竞赛中领先全球，因为决定胜负的关键并不在于2纳米、1.8纳米甚至更先进的制程，而在于一个被美国长期刻意忽视、却更为现实的因素——电力是否充足。 针对马斯克提出的电力才是…
中国虽然无法获得EUV光刻机，但仍可以通过增加DUV光刻机多重曝光（multiple patterning）的次数来制造先进芯片，只是良率会明显下降。
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无论企业如何竞争，乘客不该是为系统少数失灵时刻兜底的人。
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