完全绕开ASML深紫外光刻路线！国产真空气压式晶圆级纳米压印光刻机成本降至DUV 1/10
英特尔18A制程实测：M0间距36nm、GAA间距76nm，与宣传存在差距
消息称英特尔14A制程已获两家客户好评，预计2027年量产节点进展顺利
芯片制造的“投影微雕术”：光刻段工艺
尤其在制造需要细微纳米尺度的量子位结构和控制线路时，172nm技术能够提供更好的精度和更小的较小特征尺寸，从而满足量子计算硬件对制造精度的极高要求。通过提供更高的分辨率和更精准的制造能力，172nm光刻技术能…
在芯片制程逼近物理较好的今天，172nm紫外光刻技术正以“短波长+高能量+工艺简化”的非对称创新策略，悄然突破纳米制造的多重壁垒。中科院光电所团队利用该技术，在365nm光源下成功突破22nm线宽壁垒，而17…
这项新技术通过将两个具有微小中心孔的轴对称镜子对齐成一直线，实现了优越的光学特性。相比之下，通过将从 EUV源到晶圆的镜子总数限制为四个，超过 10% 的能量可以传递，这意味着即使是输出几十瓦的小 EUV…
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