LPP（激光等离子体光源）和DPP（放电等离子体光源）功率高但造价昂贵，前者主要应用于EUV光刻机，后者多用于在线量测；
快科技8月25日消息，据媒体报道，美国政府正计划强制荷兰政府进一步收紧对华出口管制，拟禁止向中国销售几乎所有类型的芯片制造设备，其中涵盖深紫外（DUV）光刻机。
快科技8月17日消息，此前巴黎第一大学教授埃马纽埃尔孔博公开发表署名文章指出，美欧联合出台对华光刻机出口禁令的操作，最后反而会让美国和欧洲自己成为最大的输家，根本达不到他们最初想要遏制中国半导体产业发展的目的。
中国企业研发光刻机同样面对这一难关，但美国的制裁将许多进口设备挡在中国市场之外，国产自主设备获得了天然的市场空间。
中国虽然无法获得EUV光刻机，但仍可以通过增加DUV光刻机多重曝光（multiple patterning）的次数来制造先进芯片，只是良率会明显下降。
你可以做到全世界唯一，依然不一定最赚钱。
先说说ASML有多牛，极紫外（EUV）光刻机（给芯片"印电路"的核心设备，全世界只有这家荷兰公司能造最先进型号）一台就要4亿美元（约27亿元人民币），零件超过10万个，每年研发投入高达50亿美元。
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