EUV光刻机的技术，其实是美国最早研发出来的，但美国研发出原型之后，将一整套理论和技术，交给了ASML，让ASML来研发。 可见，要制造出EUV光刻机，可不是简单的某一点突破就行，需要全方面的突破，而我们目…
而如果Rapidus搞定了这2nm工艺，那么必然将持续扩大产能，那么必然就需要大量的EUV光刻机了，所以ASML将宝押在了日本，所以在日本大扩张，光刻机人员，要增加500%。还真不是，对于ASML而言，我觉…
快科技3月13日消息，据韩国媒体报道，三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NAEUV光刻机——EXE:5000，价值高达5000亿韩元（约合24.88亿元人民币）。 ASML是目前…
3月13日消息，据韩国媒体报道，三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NAEUV光刻机——EXE:5000，价值高达5000亿韩元（约合24.88亿元人民币）。 ASML是目前…
Intel资深首席工程师Steve Carson透露，迄今为止，两台EUV光刻机已经生产了3万块晶圆，当然不算很多，但别忘了这只是测试和研究使用的，并非商用量产，足以证明Intel对于新光刻机是多么的重视。…
在美国看来，只要堵住这些设备、技术、软件，中国就不可能用手搓出芯片来。甚至不准EUV光刻机，以任何形式进入中国，哪怕是其它国家的芯片厂，在中国设立的芯片制造工厂，也不允许进口EUV光刻机，真正的严防死守。 …
毕竟只要ASML不卖EUV光刻机给对方，对方就无法制造出7nm以下的芯片，目前EUV光刻机，全球仅ASML一家能够制造，没有替代品。近日，ASML CEO Christophe Fouquet（富凯）接受…
快科技12月22日消息，ASML已经向Intel等客户出货迄今最先进的高NA EVU光刻机TWINSCANEXE:5000，还打造了一个特别的纪念品，等比例缩小的乐高玩具，结果超乎寻常的火爆。 这款光刻机乐…
快科技12月19日消息，据报道，日本初创晶圆代工厂Rapidus已成功接收其订购的首台ASMLEUV光刻机，这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。 Rapidus也成为日本首家拥有EUV光刻机的公司，由于…
12月19日消息，据报道，日本初创晶圆代工厂Rapidus已成功接收其订购的首台ASMLEUV光刻机，这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。 Rapidus首席执行官小池淳义在新千岁机场举行的典礼上表示…
12月19日消息，据报道，日本初创晶圆代工厂Rapidus已成功接收其订购的首台ASMLEUV光刻机，这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。 Rapidus也成为日本首家拥有EUV光刻机的公司，由…
后来中国GPU企业不断崛起，也推出了一些AI芯片和英伟达竞争，如果放任这些AI企业崛起，那么美国针对中国AI的围堵就成为了笑话。 于是这次美国将HBM芯片进行了限制，因为AI芯片离不开HBM，一旦将HBM限…
所以，美国就联手日本、荷兰，对光刻机进行封堵，不准EUV光刻机卖给中国，后来更是不准高端的浸润式DUV光刻机卖给中国，为的就是限制中国芯片制造产业的发展。 一旦我们拥有了EUV光刻机，那么就意味着我们自己能…
但蔡司的这套系统，只供货给ASML，想要山寨EUV光刻机，不仅需要了解所有零件，还需要造出所有零件的替代品，很明显有些根本就造不出来，所以怎么山寨？ 其实大家想一想就明白了，如果山寨这么容易，我们根本就不需…
当时英特尔是芯片霸主，地位很超然，根本就不愁钱，拿出了数十亿美元，然后和这些实验室们，大约花了4年时间，把EUV光刻机研发了出来，不过不是规模生产，只是搞出了一个模型，但这个模型从理论研究，到论证，基本上都…
10月30日消息，据ET News，有报道援引消息人士称，三星电子将从ASML引进首台High-NA EUV光刻机EXE:5000，预计2025年初到货。半导体设备安装通常需要较长测试时间，该光刻机预计最快2…
目前三星电子尚未为该工厂赢得任何关键客户，这一现状无疑为项目的推进增添了不确定性。这一举动不仅迫使这些供应商开始寻找新的客户，还导致已部署在泰勒市工厂的工作人员不得不暂时返回家中。这一消息无疑为整个芯片制造行…
最后ASML拿到技术，再和intel等晶圆厂一起验证，再拉上蔡司等供应链，经过了多年研究，才把EUV光刻机制造出来。 ASML走到今天，也是一步一步，花了10多年的摸索，所以说，中国现在造不出EUV光刻机来…
不过，说实话，对于台积电而言，电费的上升，也许会有影响，但实际影响不大，毕竟台积电一年的利润高达2000多亿人民币，多出几十亿元，毛毛雨而已，台积电预估电费上升，也只影响单季度毛利率0.35%至0.4%以内…
因为光线的波长小，分辨率就高了，所以浸润式光刻机，可以用于最小7nm工艺的芯片，这是干式DUV办不到的。其实它就是一台干式DUV光刻机，所以能生产多少纳米的芯片，我也不多说了，懂的都懂。 基于此，很多人表…
目前国内光刻机技术，理论上来讲，还在第四代，也就是ArF光刻机，也称之为干式DUV光刻机，采用193nm的波长，理论最小制程为65nm，前几天的新闻，铺天盖地都是一台这样的光刻机，我就不多说它了。 所以现在…
此前，在去年12月Intel已经接收了全球首台High NA EUV光刻机并在俄勒冈州晶圆厂完成了组装。 此次引入第二台设备将进一步提升Intel在高端芯片制造领域的竞争力，并有望帮助公司在2025年超过台积…
帕特·基辛格表示，这台第二台High NA EUV光刻机将很快进入Intel位于美国俄勒冈州的晶圆厂，并有望支持公司生产新一代更强大的计算机芯片。此次引入第二台设备将进一步增强Intel在高端芯片制造领域的…
8月6日消息，在近日的财报电话会议上，Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NAEUV（极紫外光刻机）。 High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备…
事实上，不只是EDA这一块，目前在芯片设计、封测这两大关键环节上，我们都已经拥有了3nm的技术，真正缺的是制造，只要制造能跟上，3nm芯片早就不是问题了。 所以不仅仅是光刻机的问题，我们在整个半导体设备领域…
但大家不知道的是，其实EUV光刻机的研发，是英特尔带着美国的实验室、科研机构研发出来的，但英特尔研发出来后，自己不想造，觉得不如造芯片赚钱，就扔给ASML。 接下来应该要真正投入制造了，但英特尔自己不想干，…
而理论上来讲，制造5nm以下芯片，必须用到EUV光刻机，所以当芯片厂商们要进入5nm以下，就必须找ASML买EUV光刻机，再贵也得买。 目前只有台积电表示暂时不买它，而intel已经买了一台，三星也表示要买…
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