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阿斯麦:预计到2030年EUV光刻机每小时晶圆产量可增加50%

IP属地 中国·北京 财闻 时间:2026-02-24 00:13:05

2月23日,阿斯麦(ASML.US)表示,通过提升功率,可将光刻机极紫外光源的功率提升至1000瓦特,预计到2030年极紫外光刻机的每小时晶圆产量可增加50%。阿斯麦是全球唯一一家生产商用极紫外光刻(EUV)设备的公司,该设备是台积电、英特尔等芯片制造商生产先进计算芯片的关键工具。

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