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  • ASML最新EUV光刻机难卖,台积电不用它,至今仅卖出5台

    而数值孔径越大,自然通过的光线就越多了,早期的EUV光刻机,其数值孔径是NA=0.33,但即使是这样的光刻机,其价格也是高达1亿多美元。 但对于ASML而言,不可能一直生产这种NA=0.33的光刻机吧,毕竟…

    05/30
  • 多线突围 光刻材料国产化崛起

    该公司正在实施的半导体及高精度平板显示掩膜版扩产项目涵盖250nm-130nm半导体掩膜版和G8.6及以下高精度平板显示掩膜版产品,预计在2025年完成新增产线建设并逐步释放产能。 北旭电子显示面板光刻胶业…

    05/27
  • 光刻胶概念褪色,华懋科技谋跨界并购再追行业风口 |并购一线

    此番华懋科技拿下富创优越控制权,除了有做大做强业绩规模想法,或许也存着布局半导体和算力热点赛道的考量。2021年,华懋科技以8亿元按照同等估值通过增资+借款转股+追加的形式取得徐州博康信息化学品有限公司(以下…

    05/21
  • 消息称三星半导体战略转向:外包低端光掩模,专注尖端光刻

    5 月 16 日消息,科技媒体 semimedia 昨日(5 月 15 日)发布博文,报道称三星电子计划将低端光掩模(photomask)生产外包,以腾出内部产能,专注于用于下一代存储芯片的先进光刻…

    05/16
  • EUV 光刻胶需求强劲,消息称今年光刻材料行业收入将增 7% 达 50.6 亿美元

    月 11 日消息,研究机构 TECHCET 发文,透露受半导体市场复苏推动,2025 年光刻材料收入预计增长 7%,达到 50.6亿美元(注:现汇率约合 366.46 亿元人民币)。其中 EUV 光…

    05/16
  • 英国南安普敦大学开设全球第二家电子束光刻工厂

    5 月 6 日消息,英国南安普敦大学当地时间 4 月 30日宣布开设全球第二家电子束光刻工厂。这是日本境外的首座同类设施,也是欧洲首个尖端半导体工厂。 根据的了解,不同于现有的主流商用技术…

    05/16
  • 英特尔谈 14A 可能使用 High NA EUV:两种光刻技术设计规则兼容

    4 月 30 日消息,英特尔并未在 2025 Intel Foundry Direct Connect(英特尔代工大会)上明确其Intel 14A 先进节点是否会引入 High NA EUV 光刻…

    05/16
  • 南安普敦建全球第二座电子束光刻工厂

    作者:狼叫兽英国南安普敦大学于4月30日宣布,将建立全球第二座电子束光刻工厂。这不仅是欧洲首个先进的半导体制造设施,也是日本以外地区设立的首座同类型工厂。 与目前主…

    05/16
  • 光罩图形化:电子束光刻发展之路

    光罩厂中的光罩图形化,则是当下电子束光刻最重要的用途,其重要性丝毫不亚于ASML的各型光刻设备。与光学投影光刻不同的是,电子束光刻过程中需要使电子束快速偏转和遮蔽,所以需要高速束闸来进行控制。另一个方向则是电…

    05/16
  • ASML麻烦了?英国电子束光刻机,绕过EUV,制造5nm芯片

    而EUV又用于7nm以下的芯片制造,所以说ASML卡住了全球所有先进芯片制造企业的脖子。还有美国之前搞了EBL电子束技术,据称也能够用于5nm及以下芯片的制造。 这种产品,据称可以制造下一代半导体芯片,并…

    05/16
  • 中国EUV技术突破:比ASML的EUV光刻机,转换效率提升100%

    这个中间又有损耗,所以最终它的实际转换效率,低到只有0.02%左右。这意味着如果以后的EUV光刻机,采用这种技术,其耗电量,可能会大大降低,这一定是所有芯片制造企业的福音。 当然,一项技术从提到到最终实际…

    05/16
  • 中国离自研EUV光刻机,又近一步,但ASML CEO却还在嘴硬

    所以一直以来,中国也在努力的进行突破,希望早日能够研发出属于自己的EUV光刻机,那么禁令什么的就成废纸了。 不过针对中国在EUV光源上的进步,ASML的CEO克里斯托夫·富凯则称,中国也许能制造出一些EUV…

    05/16
  • ASML:40年来,中国购买的光刻机设备,超过1400台了

    第二个原因,当然是因为我们这些年,一直在努力的发展芯片产业,而光刻机是芯片制造中必不可少的设备之一,既然中国需要那么多,同时技术又跟不上,就只能从ASML去购买了。 比如去年我们就曝光了一台氟化氩的光刻机,…

    05/16
  • 为什么中国研发不出7nm的EUV光刻机?有3个原因

    EUV光刻机的技术,其实是美国最早研发出来的,但美国研发出原型之后,将一整套理论和技术,交给了ASML,让ASML来研发。 可见,要制造出EUV光刻机,可不是简单的某一点突破就行,需要全方面的突破,而我们目…

    05/16
  • ASML预计正确,中国购买的光刻机,已下降了45%

    所以ASML也预计到了,未来中国找他们采购的光刻机数量、金额会越来越少,甚至跌至20%以下,如今2024年Q4,以及2025Q1的数据,已经开始反应这个事实了。 虽然现在还有27%的比例,但与去年最高49%…

    05/16
  • ASML押宝日本,EUV光刻机员工,要暴增500%

    而如果Rapidus搞定了这2nm工艺,那么必然将持续扩大产能,那么必然就需要大量的EUV光刻机了,所以ASML将宝押在了日本,所以在日本大扩张,光刻机人员,要增加500%。还真不是,对于ASML而言,我觉…

    05/16
  • 只差光刻机,中国自研芯片设备,就能制造14nm芯片了?

    如上图所示,淡黄色部分是已经规模量产,且工艺覆盖到的,而表格中标注企业的,代表着已经有企业在这个工艺节点推出了产品,技术已经覆盖到了。 只要我们光刻机有突破,不说EUV,只要能够搞定浸润式DUV,实现到7n…

    05/16
  • 英特尔豪赌14A!全球首台HighNA光刻机就位,台积电慌了

    虽然台积电也有类似的技术(SPR),但是量产时间仍然晚于英特尔,从目前已公布的技术方案来看,英特尔的14A显然要领先于台积电的A14,而且还将比台积电早一年实现量产。 如果英特尔的14A工艺可以按计划完成,…

    05/16
  • 浸润光刻之父林本坚:再逼中国大陆 完全可能诞生半导体界DeepSeek

    快科技4月3日消息,近日,有着“浸润光刻之父”之称的中国台湾清华大学半导体研究学院院长、台积电前研发副总经理林本坚在接受采访时表示,中国大陆可能重新定义半导体行业,甚至可能诞生类似DeepSeek的突破性成果…

    05/16
  • 日本先进光刻机保有量上升,ASML 计划驻日维护团队规模扩大四倍

    4 月 3 日消息,《日经亚洲》当地时间昨晚报道称,在日本半导体制造足迹不断扩张、先进光刻机保有量持续上升的趋势下,ASML计划将其驻日维护团队在未来几年扩大到当前规模的 5 倍,到 2027 年…

    05/16
  • 凯美特气子公司获GIGAPHOTON光刻气合格供应商认证

    天眼查资料显示,凯美特气成立于1991年06月10日,注册资本69534.7901万人民币,法定代表人祝恩福,注册地址为湖南省岳阳市岳阳楼区延寿寺路凯美特气。 在业绩方面,公司2022年至2024年营业收入…

    05/14
  • 涨停复盘:市场超3300股下跌 化工、光刻机概念走强

    化工股延续强势,中毅达再度涨停14天8板,善水科技、恒光股份、神剑股份、江苏索普等个股涨停。据百川数据显示,硫酸价格目前报价596.96元/吨,较去年同期上涨290%,溴素市场均价为2.8万元/吨,相较于此…

    03/27
  • 涨停复盘:市场超3300股下跌 化工、光刻机概念走强

    化工股延续强势,中毅达再度涨停14天8板,善水科技、恒光股份、神剑股份、江苏索普等个股涨停。据百川数据显示,硫酸价格目前报价596.96元/吨,较去年同期上涨290%,溴素市场均价为2.8万元/吨,相较于此…

    03/27
  • A股收评:三大指数小幅反弹 化工、光刻机概念股集体大涨

    市场全天震荡反弹,三大指数小幅上涨。截至收盘,沪指涨0.15%,深成指涨0.23%,创业板指涨0.24%。从板块来看,化工股集体大涨,华尔泰等多股涨停。 光刻机概念股震荡走强,海立股份涨停。 个股方面,卧龙…

    03/27
  • 收评:三大指数小幅反弹 化工、光刻机概念股集体大涨

    3月27日电,市场全天震荡反弹,三大指数小幅上涨。从板块来看,化工股集体大涨,华尔泰等多股涨停。光刻机概念股震荡走强,海立股份涨停。板块方面,光刻机、化学原料、创新药、草甘膦等板块涨幅居前,深海科技、可控核聚…

    03/27
  • 3月27日A股分析:沪指微涨0.15%,光刻机概念领涨,两市成交额近1.2万亿,半导体资金流入最多

    资金流出最多的概念板块为融资融券,富时罗素,深股通,央国企改革,创业板综,分别为:-218.44亿,-138.86亿,-130.47亿,-101.75亿,-86.95亿; 跌幅最多的概念板块为:昨日触板,超…

    03/27
  • 收评:三大指数小幅反弹 化工、光刻机概念股集体大涨

    3月27日电,市场全天震荡反弹,三大指数小幅上涨。从板块来看,化工股集体大涨,华尔泰等多股涨停。板块方面,光刻机、化学原料、创新药、草甘膦等板块涨幅居前,深海科技、可控核聚变、有色金属、电力等板块跌幅居…

    03/27
  • 国产DUV光刻研发成功 3nm制程可以量产了

    这款创新性的激光源能够发射出与当前主流DUV曝光技术波长相同的193纳米相干光,为半导体工艺提升至3纳米节点提供了有力支持。 经过精确测量,该固态DUV激光源的平均功率达到了70毫瓦,频率为6千赫兹,线宽低于…

    03/26
  • 绕开欧美专利技术封锁?中科院,研发新的DUV光刻机方案

    不过,近日,有好消息传出,那就是中国科学院(CAS)的研究人员成功研发突破性的固态深紫外(DUV)激光,光源波长是193nm,和ASML、佳能、尼康的方式不一样。 不过,目前这个技术,更多的还是在实验室,要…

    03/25
  • ASML 发家史:从“漏雨棚屋”到全球光刻机领域领导者

    ASML 最初是由电子巨头飞利浦(Philips)和先进半导体材料国际公司(ASMI)合作成立的,目标是专注于光刻系统这一新兴市场。1984年,ASML 在荷兰埃因霍温的飞利浦旧园区 Strijp-T 成…

    03/23
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