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  • 尼康推出其首款后端光刻机,支持 600×600 大尺寸 FOPLP 先进封装

    07/21
  • 光刻机巨头二季度业绩超预期,2026年恐难实现增长

    07/18
  • 30亿元/台!全球首台顶级光刻机出货 支持后2nm工艺:中国厂商不可能买到

    30亿元/台!全球首台顶级光刻机出货 支持后2nm工艺:中国厂商不可能买到

    07/17
  • 阿斯麦 ASML:火热的英伟达,“暖不热” 清冷的光刻机?

    07/16
  • 荷兰光刻机巨头阿斯麦:美关税政策致使公司增长前景不明

    07/16
  • 阿斯麦Q2近半新订单为EUV光刻机

    07/16
  • 涨幅王布局光刻胶,再闯光刻机!

    你可能不知道什么是投影式曝光机,但说到光刻机——这个被称作"半导体工业皇冠上的明珠"的设备,想必都不陌生。这一系列动作背后,是资金在半导体产业链上的精准布局。重要的是学会用数据说话——毕竟在资本市场里,"钱往…...

    07/11
  • 172nm紫外光刻技术在量子计算领域的应用与影响

    尤其在制造需要细微纳米尺度的量子位结构和控制线路时,172nm技术能够提供更好的精度和更小的较小特征尺寸,从而满足量子计算硬件对制造精度的极高要求。通过提供更高的分辨率和更精准的制造能力,172nm光刻技术能…

    07/09
  • AI法案监管过严,阿斯麦等多家企业呼吁欧盟推迟实施

    《AI法案》是一套旨在防止该技术被严重滥用的监管措施。

    07/06
  • ASML世界最先进EUV光刻机只卖了5台!Intel:光刻没那么重要了

    07/04
  • AI法案监管过严,阿斯麦等多家企业呼吁欧盟推迟实施

    《AI法案》是一套旨在防止该技术被严重滥用的监管措施。

    07/03
  • 172nm紫外光刻:重塑纳米技术前沿的隐形引擎

    在芯片制程逼近物理较好的今天,172nm紫外光刻技术正以“短波长+高能量+工艺简化”的非对称创新策略,悄然突破纳米制造的多重壁垒。中科院光电所团队利用该技术,在365nm光源下成功突破22nm线宽壁垒,而17…

    07/02
  • ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机:5nm单次曝光

    06/29
  • 英特尔董事:蚀刻技术将取代光刻成芯片制造核心

    06/20
  • 容大感光:PCB光刻胶单体已实现国产化

    6月12日消息,有投资者在互动平台向容大感光提问:请问上游感光单体的供应商有实现国产化替代吗?主要有哪些企业能为咱们公司提供感光单体产品? 公司回答表示:您好,公司的光刻胶产品主要包括PCB光刻胶、显示…

    06/12
  • 消息称三星电子在 DRAM 内存领域率先导入干式光刻胶技术

    6 月 11 日消息,韩媒 ETNews 当地时间昨日报道称,三星电子在 DRAM 内存领域率先导入干式光刻胶 (Dry PR)技术,将应用于到即将正式推出的第 6 代 10 纳米级工艺 (1c …

    06/11
  • 光刻机有后门吗:ASML能否远程关闭中国的光刻机

    傅恪礼称,中国已经开始研发一些国产光刻设备,尽管中国在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走,但“你试图阻止的人会更加努力地取得成功。” 在国产光刻机真正完成替代之前,我们依然需要使用ASML的DUV光刻机。…

    06/09
  • 国林科技:公司氨水设备可以用于光刻胶显影环节

    6月9日消息,有投资者在互动平台向国林科技提问:所谓电子级氨水,主要用于晶圆清洗、光刻胶显影及蚀刻后处理等关键制程。公司的半导体氨水发生器是否用于光刻胶显影环节? 公司回答表示:尊敬的投资者,您好。公司…

    06/09
  • 泰和科技:光刻胶酚醛树脂产品已通过部分客户验证并形成小批量销售

    6月9日消息,有投资者在互动平台向泰和科技提问:请问贵公司硫化物、光刻胶材料进展如何?还会有哪些新业务的推出能稳定公司盈利? 公司回答表示:尊敬的投资者您好,公司的“硫化物固态电解质的制备及其产业化研究…

    06/09
  • 科学家用纳米光刻系统制成世界最小小提琴,长35微米宽13微米

    其研发初衷是为了测试拉夫堡大学最新配备的纳米光刻系统,该系统可让科学家精密构建和观察极其微小的结构。莫里森说:“这个系统能让我们从光、磁、电等多个维度探测材料反应。 拉夫堡大学指出,这把小提琴其实是显微镜…

    06/07
  • 科学家用纳米光刻系统制成“世界最小的小提琴”,长 35 微米宽 13 微米

    其研发初衷是为了测试拉夫堡大学最新配备的纳米光刻系统,该系统可让科学家精密构建和观察极其微小的结构。莫里森说:“这个系统能让我们从光、磁、电等多个维度探测材料反应。 拉夫堡大学指出,这把小提琴其实是显微镜…

    06/07
  • 终于,ASML的EUV光刻机,走进“死胡同”了?

    毕竟EUV光刻机是制造7nm以下芯片必备机器,所以全球的顶尖芯片厂,都要抢ASML的EUV光刻机,看它的脸色行事,它卡着全球芯片厂商的脖子啊。二是研发出来,也因为成本太高,芯片厂商们不愿意买,卖不掉啊。 A…

    05/31
  • ASML最新EUV光刻机难卖,台积电不用它,至今仅卖出5台

    而数值孔径越大,自然通过的光线就越多了,早期的EUV光刻机,其数值孔径是NA=0.33,但即使是这样的光刻机,其价格也是高达1亿多美元。 但对于ASML而言,不可能一直生产这种NA=0.33的光刻机吧,毕竟…

    05/30
  • 多线突围 光刻材料国产化崛起

    该公司正在实施的半导体及高精度平板显示掩膜版扩产项目涵盖250nm-130nm半导体掩膜版和G8.6及以下高精度平板显示掩膜版产品,预计在2025年完成新增产线建设并逐步释放产能。 北旭电子显示面板光刻胶业…

    05/27
  • 光刻胶概念褪色,华懋科技谋跨界并购再追行业风口 |并购一线

    此番华懋科技拿下富创优越控制权,除了有做大做强业绩规模想法,或许也存着布局半导体和算力热点赛道的考量。2021年,华懋科技以8亿元按照同等估值通过增资+借款转股+追加的形式取得徐州博康信息化学品有限公司(以下…

    05/21
  • 消息称三星半导体战略转向:外包低端光掩模,专注尖端光刻

    5 月 16 日消息,科技媒体 semimedia 昨日(5 月 15 日)发布博文,报道称三星电子计划将低端光掩模(photomask)生产外包,以腾出内部产能,专注于用于下一代存储芯片的先进光刻…

    05/16
  • EUV 光刻胶需求强劲,消息称今年光刻材料行业收入将增 7% 达 50.6 亿美元

    月 11 日消息,研究机构 TECHCET 发文,透露受半导体市场复苏推动,2025 年光刻材料收入预计增长 7%,达到 50.6亿美元(注:现汇率约合 366.46 亿元人民币)。其中 EUV 光…

    05/16
  • 英国南安普敦大学开设全球第二家电子束光刻工厂

    5 月 6 日消息,英国南安普敦大学当地时间 4 月 30日宣布开设全球第二家电子束光刻工厂。这是日本境外的首座同类设施,也是欧洲首个尖端半导体工厂。 根据的了解,不同于现有的主流商用技术…

    05/16
  • 英特尔谈 14A 可能使用 High NA EUV:两种光刻技术设计规则兼容

    4 月 30 日消息,英特尔并未在 2025 Intel Foundry Direct Connect(英特尔代工大会)上明确其Intel 14A 先进节点是否会引入 High NA EUV 光刻…

    05/16
  • 南安普敦建全球第二座电子束光刻工厂

    作者:狼叫兽英国南安普敦大学于4月30日宣布,将建立全球第二座电子束光刻工厂。这不仅是欧洲首个先进的半导体制造设施,也是日本以外地区设立的首座同类型工厂。 与目前主…

    05/16
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