清华大学官宣！EUV光刻胶材料取得重要进展
先进封装市场正以20%的复合增长率高速扩张。
新款光刻机，突破先进封装技术！明年上市
30亿元/台！全球首台顶级光刻机出货 支持后2nm工艺：中国厂商不可能买到
你可能不知道什么是投影式曝光机，但说到光刻机——这个被称作"半导体工业皇冠上的明珠"的设备，想必都不陌生。这一系列动作背后，是资金在半导体产业链上的精准布局。重要的是学会用数据说话——毕竟在资本市场里，"钱往…...
尤其在制造需要细微纳米尺度的量子位结构和控制线路时，172nm技术能够提供更好的精度和更小的较小特征尺寸，从而满足量子计算硬件对制造精度的极高要求。通过提供更高的分辨率和更精准的制造能力，172nm光刻技术能…
《AI法案》是一套旨在防止该技术被严重滥用的监管措施。
在芯片制程逼近物理较好的今天，172nm紫外光刻技术正以“短波长+高能量+工艺简化”的非对称创新策略，悄然突破纳米制造的多重壁垒。中科院光电所团队利用该技术，在365nm光源下成功突破22nm线宽壁垒，而17…
6月12日消息，有投资者在互动平台向容大感光提问：请问上游感光单体的供应商有实现国产化替代吗？主要有哪些企业能为咱们公司提供感光单体产品？ 公司回答表示：您好，公司的光刻胶产品主要包括PCB光刻胶、显示…
6 月 11 日消息，韩媒 ETNews 当地时间昨日报道称，三星电子在 DRAM 内存领域率先导入干式光刻胶 (Dry PR)技术，将应用于到即将正式推出的第 6 代 10 纳米级工艺 (1c …
傅恪礼称，中国已经开始研发一些国产光刻设备，尽管中国在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走，但“你试图阻止的人会更加努力地取得成功。” 在国产光刻机真正完成替代之前，我们依然需要使用ASML的DUV光刻机。…
6月9日消息，有投资者在互动平台向国林科技提问：所谓电子级氨水，主要用于晶圆清洗、光刻胶显影及蚀刻后处理等关键制程。公司的半导体氨水发生器是否用于光刻胶显影环节？ 公司回答表示：尊敬的投资者，您好。公司…
6月9日消息，有投资者在互动平台向泰和科技提问：请问贵公司硫化物、光刻胶材料进展如何？还会有哪些新业务的推出能稳定公司盈利？ 公司回答表示：尊敬的投资者您好，公司的“硫化物固态电解质的制备及其产业化研究…
其研发初衷是为了测试拉夫堡大学最新配备的纳米光刻系统，该系统可让科学家精密构建和观察极其微小的结构。莫里森说：“这个系统能让我们从光、磁、电等多个维度探测材料反应。 拉夫堡大学指出，这把小提琴其实是显微镜…
毕竟EUV光刻机是制造7nm以下芯片必备机器，所以全球的顶尖芯片厂，都要抢ASML的EUV光刻机，看它的脸色行事，它卡着全球芯片厂商的脖子啊。二是研发出来，也因为成本太高，芯片厂商们不愿意买，卖不掉啊。 A…
而数值孔径越大，自然通过的光线就越多了，早期的EUV光刻机，其数值孔径是NA=0.33，但即使是这样的光刻机，其价格也是高达1亿多美元。 但对于ASML而言，不可能一直生产这种NA=0.33的光刻机吧，毕竟…
该公司正在实施的半导体及高精度平板显示掩膜版扩产项目涵盖250nm-130nm半导体掩膜版和G8.6及以下高精度平板显示掩膜版产品，预计在2025年完成新增产线建设并逐步释放产能。 北旭电子显示面板光刻胶业…
此番华懋科技拿下富创优越控制权，除了有做大做强业绩规模想法，或许也存着布局半导体和算力热点赛道的考量。2021年，华懋科技以8亿元按照同等估值通过增资+借款转股+追加的形式取得徐州博康信息化学品有限公司（以下…
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