众所周知，光刻机和芯片工艺是一一对应的。如下图所示，这是光刻机类型，对应的芯片工艺。

可以看到普通的DUV光刻机，也就是干式ArF光刻机，最多能制造65/55nm的芯片。

而浸润式DUV光刻机，也就是ArFi光刻机，最多能够制造到7nm的芯片，甚至按照林本坚的说法，还可以向5nm芯片工艺推进的。

至于5nm芯片之后，那就必须使用EUV这种极紫外线光刻机了，用DUV光刻机已经制造不出来了，因为DUV光刻机的光线波长经水折射也也毕竟有134nm，波长太长，分辨率不够。

而国内之前能够买到所有的浸润式DUV光刻机，而EUV光刻机买不到，美国不允许ASML销售给中国，因为美国怕中国研发出了7nm甚至更先进的芯片工艺。

后来，美国又限制了ASML，不准出售先进的浸润式DUV光刻机，当时只允许出售两款较旧的浸润式光刻机，分别是TWINSCAN NXT：1970i和1980i深紫外光微影（DUV）系统。

因为当时只有较为先进的浸润式DUV光刻机，才有可能进入7nm工艺，相对较老的，像1970i和1980i，要进入7nm相对较麻烦，良率较低，成本高。

而近日，有媒体报道称，荷兰政府再次更改了规则，这次连ASML之前能够出口的1970i和1980i这两款老一点的浸润式DUV光刻机，也限制住了。

荷兰政府虽然没有说只是针对中国，但明眼人一看就能看出，就是针对中国的，因为一旦ASML出口这两种机器，也需向荷兰海牙政府申请出口许可证，新政于9月7日正式生效。

很多人分析称，一是因为虽然1970i和1980i要生产7nm芯片较难，但其实还是可以的，毕竟也有先例。二是看到中国芯进步很快，明显已经超过了美国的预期，所以美国不敢再让ASML出口1970i和1980i了，之前的芯片已经是例子了。

美国的意图很明显，那就是彻底阻7nm芯片之路，因为一旦这两款也禁了后，就没有了浸润式DUV光刻机了，没有了浸润式光刻机，就不可能进入7nm了吧，至于5nm，当然就更加没希望了。

再结合之前的不准ASML维修光刻机，也就是说新的不准买，旧的坏了不准修，让其变成废铁，美国的想法还是很美好的，接下来就看我们如何破局了。