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国林科技:公司氨水设备可以用于光刻胶显影环节

IP属地 北京 编辑:任飞扬 金融界 时间:2025-06-09 09:12:12

6月9日消息,有投资者在互动平台向国林科技提问:所谓电子级氨水,主要用于晶圆清洗、光刻胶显影及蚀刻后处理等关键制程。公司的半导体氨水发生器是否用于光刻胶显影环节?

公司回答表示:尊敬的投资者,您好。公司氨水设备可以用于光 刻胶显影环节。感谢您的关注。

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