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SK 海力士开始供应业界首款采用新材料的高效散热移动 DRAM

IP属地 中国·北京 编辑:柳晴雪 IT之家 时间:2025-08-28 08:14:58

IT之家 8 月 28 日消息,SK 海力士 8 月 25 日宣布,已开发完成并开始向客户供应业界首款采用“High-K EMC”材料的高效散热移动 DRAM 产品。


据IT之家了解,EMC(环氧模封料,Epoxy Molding Compound)用于密封保护半导体免受湿气、热气、冲击和静电等外部环境影响,并起到散热通道作用的半导体后工艺中必要材料。High-K EMC 是指在 EMC 中使用热导系数(K 值)更高的材料,从而提高热导率(Thermal conductivity)。

SK 海力士表示:“随着端侧 AI(On-Device AI)运行过程中高速数据处理所导致的发热问题日益严重,已成为智能手机性能下降的主要原因。该产品有效解决了高性能旗舰手机的发热问题,获得了全球客户的高度评价。”


目前最新的旗舰手机多采用 PoP(Package on Package)结构,即将 DRAM 垂直堆叠在移动处理器(Application Processor)上。该结构虽然能够高效利用有限空间并提升数据处理速度,但也导致移动处理器产生的热量积聚在 DRAM 内部,从而影响整机性能。

为解决这一问题,SK 海力士致力于提升 DRAM 封装关键材料 EMC 的热导性能。公司在传统 EMC 中使用的二氧化硅(Silica)基础上,混合了氧化铝(Alumina),开发出 High-K EMC 新材料。该新材料热导率与传统材料相比提高到 3.5 倍,从而将热量垂直传导路径的热阻降低了 47%。

散热性能的提升有助于改善智能手机整机性能,同时通过降低功耗,可延长电池续航时间并提高产品寿命。公司期待该产品能够引发移动设备行业的高度关注和强劲需求。

SK 海力士 PKG 产品开发担当李圭济副社长表示:“此次产品不仅提升了性能,还有效缓解了高性能智能手机用户的困扰,其意义深远而重大。我们将继续以材料技术创新为基础,牢固确立在新一代移动 DRAM 市场中的技术领导地位。”

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