标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。
清华大学官宣！EUV光刻胶材料取得重要进展
毕竟EUV光刻机是制造7nm以下芯片必备机器，所以全球的顶尖芯片厂，都要抢ASML的EUV光刻机，看它的脸色行事，它卡着全球芯片厂商的脖子啊。二是研发出来，也因为成本太高，芯片厂商们不愿意买，卖不掉啊。 A…
而数值孔径越大，自然通过的光线就越多了，早期的EUV光刻机，其数值孔径是NA=0.33，但即使是这样的光刻机，其价格也是高达1亿多美元。 但对于ASML而言，不可能一直生产这种NA=0.33的光刻机吧，毕竟…
作者：狼叫兽 5 月 28 日消息，在荷兰阿姆斯特丹当地时间昨日举行的公司 2025年技术论坛欧洲场活动中，台积电负责业务开发及全球业务的资深副总经理兼副联席 CO…
5 月 28 日消息，台积电负责业务开发及全球业务的资深副总经理兼副联席 COO 张晓强在荷兰阿姆斯特丹当地时间昨日举行的公司2025 年技术论坛欧洲场上表示，台积电暂无为先进制程导入 High …
TheElec 报道称，三星准备将低端产品（i-line 365 纳米、KrF 248 纳米）进行外包，内部仅保留高端光掩模（ArF 193纳米、EUV 13.5 纳米），原 i-line / KrF 资…
月 11 日消息，研究机构 TECHCET 发文，透露受半导体市场复苏推动，2025 年光刻材料收入预计增长 7%，达到 50.6亿美元（注：现汇率约合 366.46 亿元人民币）。其中 EUV 光…
4 月 30 日消息，英特尔并未在 2025 Intel Foundry Direct Connect（英特尔代工大会）上明确其Intel 14A 先进节点是否会引入 High NA EUV 光刻…
而EUV又用于7nm以下的芯片制造，所以说ASML卡住了全球所有先进芯片制造企业的脖子。还有美国之前搞了EBL电子束技术，据称也能够用于5nm及以下芯片的制造。 这种产品，据称可以制造下一代半导体芯片，并…
这个中间又有损耗，所以最终它的实际转换效率，低到只有0.02%左右。这意味着如果以后的EUV光刻机，采用这种技术，其耗电量，可能会大大降低，这一定是所有芯片制造企业的福音。 当然，一项技术从提到到最终实际…
所以一直以来，中国也在努力的进行突破，希望早日能够研发出属于自己的EUV光刻机，那么禁令什么的就成废纸了。 不过针对中国在EUV光源上的进步，ASML的CEO克里斯托夫·富凯则称，中国也许能制造出一些EUV…
EUV光刻机的技术，其实是美国最早研发出来的，但美国研发出原型之后，将一整套理论和技术，交给了ASML，让ASML来研发。 可见，要制造出EUV光刻机，可不是简单的某一点突破就行，需要全方面的突破，而我们目…
而如果Rapidus搞定了这2nm工艺，那么必然将持续扩大产能，那么必然就需要大量的EUV光刻机了，所以ASML将宝押在了日本，所以在日本大扩张，光刻机人员，要增加500%。还真不是，对于ASML而言，我觉…
帕特·基辛格声称，xLight 的技术可以提供当前EUV光源4倍的功率（1000W），可以将每片晶圆的光刻成本降低约 50%，并且单个xLight 的EUV-FEL光源系统可以支持多达 20 台 ASML…
第三从生态系统看，NIL本质上还是一种基于晶圆的制造工艺，其流程在某些方面与传统的光刻技术有相似之处，例如都需要涂胶、显影等步骤，更容易被现有的芯片制造生态系统所接受，而这意味着，芯片制造商在导入NIL技术…
快科技3月13日消息，据韩国媒体报道，三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NAEUV光刻机——EXE:5000，价值高达5000亿韩元（约合24.88亿元人民币）。 ASML是目前…
3月13日消息，据韩国媒体报道，三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NAEUV光刻机——EXE:5000，价值高达5000亿韩元（约合24.88亿元人民币）。 ASML是目前…
3 月 12 日消息，韩媒 FNnews 昨日（3 月 11 日）发布博文，报道称三星电子本月初在其华城园区引入了 ASML 生产的High NA 极紫外光刻（EUV）设备，希望提升 2 纳米及以…
韩媒 chosun 昨日（3 月 10 日）发布博文，报道称美光在交付的样品中，其中只有一层使用极紫外光刻（EUV）设备，公司计划通过减少EUV 的使用，来加速量产尖端 DRAM。三星自 2020 年起在…
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