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  • 重要进展:清华大学开发出理想的极紫外(EUV)光刻胶材料

    07/26
  • 清华大学官宣!EUV光刻胶材料取得重要进展

    清华大学官宣!EUV光刻胶材料取得重要进展

    07/24
  • 阿斯麦Q2近半新订单为EUV光刻机

    07/16
  • ASML世界最先进EUV光刻机只卖了5台!Intel:光刻没那么重要了

    07/04
  • ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机:5nm单次曝光

    06/29
  • 终于,ASML的EUV光刻机,走进“死胡同”了?

    毕竟EUV光刻机是制造7nm以下芯片必备机器,所以全球的顶尖芯片厂,都要抢ASML的EUV光刻机,看它的脸色行事,它卡着全球芯片厂商的脖子啊。二是研发出来,也因为成本太高,芯片厂商们不愿意买,卖不掉啊。 A…

    05/31
  • ASML最新EUV光刻机难卖,台积电不用它,至今仅卖出5台

    而数值孔径越大,自然通过的光线就越多了,早期的EUV光刻机,其数值孔径是NA=0.33,但即使是这样的光刻机,其价格也是高达1亿多美元。 但对于ASML而言,不可能一直生产这种NA=0.33的光刻机吧,毕竟…

    05/30
  • 台积电:暂无需引入High NA EUV技术

    作者:狼叫兽 5 月 28 日消息,在荷兰阿姆斯特丹当地时间昨日举行的公司 2025年技术论坛欧洲场活动中,台积电负责业务开发及全球业务的资深副总经理兼副联席 CO…

    05/28
  • 台积电:暂无需引入High NA EUV技术

    作者:狼叫兽 5 月 28 日消息,在荷兰阿姆斯特丹当地时间昨日举行的公司 2025年技术论坛欧洲场活动中,台积电负责业务开发及全球业务的资深副总经理兼副联席 CO…

    05/28
  • 台积电副联席 COO 张晓强:暂无为先进制程导入 High NA EUV 必要

    5 月 28 日消息,台积电负责业务开发及全球业务的资深副总经理兼副联席 COO 张晓强在荷兰阿姆斯特丹当地时间昨日举行的公司2025 年技术论坛欧洲场上表示,台积电暂无为先进制程导入 High …

    05/28
  • 三星被曝将首次外包芯片“光掩模”生产,聚焦ArF和EUV等先进技术

    TheElec 报道称,三星准备将低端产品(i-line 365 纳米、KrF 248 纳米)进行外包,内部仅保留高端光掩模(ArF 193纳米、EUV 13.5 纳米),原 i-line / KrF 资…

    05/16
  • EUV 光刻胶需求强劲,消息称今年光刻材料行业收入将增 7% 达 50.6 亿美元

    月 11 日消息,研究机构 TECHCET 发文,透露受半导体市场复苏推动,2025 年光刻材料收入预计增长 7%,达到 50.6亿美元(注:现汇率约合 366.46 亿元人民币)。其中 EUV 光…

    05/16
  • 英特尔谈 14A 可能使用 High NA EUV:两种光刻技术设计规则兼容

    4 月 30 日消息,英特尔并未在 2025 Intel Foundry Direct Connect(英特尔代工大会)上明确其Intel 14A 先进节点是否会引入 High NA EUV 光刻…

    05/16
  • ASML麻烦了?英国电子束光刻机,绕过EUV,制造5nm芯片

    而EUV又用于7nm以下的芯片制造,所以说ASML卡住了全球所有先进芯片制造企业的脖子。还有美国之前搞了EBL电子束技术,据称也能够用于5nm及以下芯片的制造。 这种产品,据称可以制造下一代半导体芯片,并…

    05/16
  • 中国EUV技术突破:比ASML的EUV光刻机,转换效率提升100%

    这个中间又有损耗,所以最终它的实际转换效率,低到只有0.02%左右。这意味着如果以后的EUV光刻机,采用这种技术,其耗电量,可能会大大降低,这一定是所有芯片制造企业的福音。 当然,一项技术从提到到最终实际…

    05/16
  • 中国离自研EUV光刻机,又近一步,但ASML CEO却还在嘴硬

    所以一直以来,中国也在努力的进行突破,希望早日能够研发出属于自己的EUV光刻机,那么禁令什么的就成废纸了。 不过针对中国在EUV光源上的进步,ASML的CEO克里斯托夫·富凯则称,中国也许能制造出一些EUV…

    05/16
  • 为什么中国研发不出7nm的EUV光刻机?有3个原因

    EUV光刻机的技术,其实是美国最早研发出来的,但美国研发出原型之后,将一整套理论和技术,交给了ASML,让ASML来研发。 可见,要制造出EUV光刻机,可不是简单的某一点突破就行,需要全方面的突破,而我们目…

    05/16
  • ASML押宝日本,EUV光刻机员工,要暴增500%

    而如果Rapidus搞定了这2nm工艺,那么必然将持续扩大产能,那么必然就需要大量的EUV光刻机了,所以ASML将宝押在了日本,所以在日本大扩张,光刻机人员,要增加500%。还真不是,对于ASML而言,我觉…

    05/16
  • Intel前CEO加盟xLight,推动FEL-EUV光源2028年商用!成本降低2/3

    帕特·基辛格声称,xLight 的技术可以提供当前EUV光源4倍的功率(1000W),可以将每片晶圆的光刻成本降低约 50%,并且单个xLight 的EUV-FEL光源系统可以支持多达 20 台 ASML…

    04/14
  • 另辟蹊径:日本NIL与中国LDP,谁能撼动ASML EUV?

    第三从生态系统看,NIL本质上还是一种基于晶圆的制造工艺,其流程在某些方面与传统的光刻技术有相似之处,例如都需要涂胶、显影等步骤,更容易被现有的芯片制造生态系统所接受,而这意味着,芯片制造商在导入NIL技术…

    03/18
  • 5000亿韩元!三星已拿下首台High-NA EUV光刻机

    快科技3月13日消息,据韩国媒体报道,三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NAEUV光刻机——EXE:5000,价值高达5000亿韩元(约合24.88亿元人民币)。 ASML是目前…

    03/13
  • 5000亿韩元!三星已拿下首台High-NA EUV光刻机

    3月13日消息,据韩国媒体报道,三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NAEUV光刻机——EXE:5000,价值高达5000亿韩元(约合24.88亿元人民币)。 ASML是目前…

    03/13
  • 消息称三星 5000 亿韩元引入其首台 ASML High NA EUV 光刻机

    3 月 12 日消息,韩媒 FNnews 昨日(3 月 11 日)发布博文,报道称三星电子本月初在其华城园区引入了 ASML 生产的High NA 极紫外光刻(EUV)设备,希望提升 2 纳米及以…

    03/12
  • 美光抢滩 1γ DDR5 内存:最少化 EUV 使用,加速量产尖端 DRAM

    韩媒 chosun 昨日(3 月 10 日)发布博文,报道称美光在交付的样品中,其中只有一层使用极紫外光刻(EUV)设备,公司计划通过减少EUV 的使用,来加速量产尖端 DRAM。三星自 2020 年起在…

    03/11
  • 美光首家推出采用EUV技术的1γ DDR5 DRAM芯片

    美光的1γ 16Gbit DDR5 DRAM旨在提供高达9200MT/s的速度能力,与其前代产品(采用1β技术实现的16Gbit DDR5)相比,速度提高15%,功耗降低20%以上。该内存还包括下一代高K金…

    02/26
  • 世界最先进EUV光刻机开工!Intel已产3万块晶圆 14A工艺就用它

    Intel资深首席工程师Steve Carson透露,迄今为止,两台EUV光刻机已经生产了3万块晶圆,当然不算很多,但别忘了这只是测试和研究使用的,并非商用量产,足以证明Intel对于新光刻机是多么的重视。…

    02/26
  • 宝骏悦也Plus换标变身!雪佛兰Spark EUV亮相南美

    雪佛兰在巴西市场正式发布了全新的SparkEUV电动SUV,这款车型基于通用汽车与中国上汽通用五菱合作开发的宝骏悦也Plus。雪佛兰SparkEUV预计将于2025年在巴西市场正式上市。宝骏悦也Plus雪佛兰…

    02/14
  • 只要中国研发出EUV光刻机,芯片禁令成废纸,芯片战争彻底结束

    在美国看来,只要堵住这些设备、技术、软件,中国就不可能用手搓出芯片来。甚至不准EUV光刻机,以任何形式进入中国,哪怕是其它国家的芯片厂,在中国设立的芯片制造工厂,也不允许进口EUV光刻机,真正的严防死守。 …

    01/09
  • 国产光刻机,离实现EUV技术,已经只有两步距离了

    这台光刻机,大家一看便知,对应的已经是最顶级的ArF光刻机了,再往前一步,就是浸润式DUV光刻机,也就是ArFi光刻机了。 但不可否认的是,我们确实离EUV光刻机,已经只有2步了,一步是浸润式DUV,并且这…

    12/30
  • ASML CEO:美国禁售EUV光刻机后,中国芯片技术落后10-15年

    毕竟只要ASML不卖EUV光刻机给对方,对方就无法制造出7nm以下的芯片,目前EUV光刻机,全球仅ASML一家能够制造,没有替代品。近日,ASML CEO Christophe Fouquet(富凯)接受…

    12/27
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