美光的1γ 16Gbit DDR5 DRAM旨在提供高达9200MT/s的速度能力，与其前代产品（采用1β技术实现的16Gbit DDR5）相比，速度提高15%，功耗降低20%以上。该内存还包括下一代高K金…
Intel资深首席工程师Steve Carson透露，迄今为止，两台EUV光刻机已经生产了3万块晶圆，当然不算很多，但别忘了这只是测试和研究使用的，并非商用量产，足以证明Intel对于新光刻机是多么的重视。…
雪佛兰在巴西市场正式发布了全新的SparkEUV电动SUV，这款车型基于通用汽车与中国上汽通用五菱合作开发的宝骏悦也Plus。雪佛兰SparkEUV预计将于2025年在巴西市场正式上市。宝骏悦也Plus雪佛兰…
在美国看来，只要堵住这些设备、技术、软件，中国就不可能用手搓出芯片来。甚至不准EUV光刻机，以任何形式进入中国，哪怕是其它国家的芯片厂，在中国设立的芯片制造工厂，也不允许进口EUV光刻机，真正的严防死守。 …
这台光刻机，大家一看便知，对应的已经是最顶级的ArF光刻机了，再往前一步，就是浸润式DUV光刻机，也就是ArFi光刻机了。 但不可否认的是，我们确实离EUV光刻机，已经只有2步了，一步是浸润式DUV，并且这…
毕竟只要ASML不卖EUV光刻机给对方，对方就无法制造出7nm以下的芯片，目前EUV光刻机，全球仅ASML一家能够制造，没有替代品。近日，ASML CEO Christophe Fouquet（富凯）接受…
12 月 23 日消息，X（原推特）用户 @jonmasters 发现，光刻机制造商阿斯麦（ASML）正在取消非员工订购的限量版Twinscan EXE:5000 乐高模型订单。 对于未能成功购买…
快科技12月22日消息，ASML已经向Intel等客户出货迄今最先进的高NA EVU光刻机TWINSCANEXE:5000，还打造了一个特别的纪念品，等比例缩小的乐高玩具，结果超乎寻常的火爆。 这款光刻机乐…
快科技12月19日消息，据报道，日本初创晶圆代工厂Rapidus已成功接收其订购的首台ASMLEUV光刻机，这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。 Rapidus也成为日本首家拥有EUV光刻机的公司，由于…
12月19日消息，据报道，日本初创晶圆代工厂Rapidus已成功接收其订购的首台ASMLEUV光刻机，这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。 Rapidus首席执行官小池淳义在新千岁机场举行的典礼上表示…
12月19日消息，据报道，日本初创晶圆代工厂Rapidus已成功接收其订购的首台ASMLEUV光刻机，这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。 Rapidus也成为日本首家拥有EUV光刻机的公司，由…
12 月 19 日消息，日本先进逻辑半导体制造商 Rapidus 宣布，其购入的首台 ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已于当地时间昨日在其北海道千岁市 IIM-1 晶圆厂完成交…
后来中国GPU企业不断崛起，也推出了一些AI芯片和英伟达竞争，如果放任这些AI企业崛起，那么美国针对中国AI的围堵就成为了笑话。 于是这次美国将HBM芯片进行了限制，因为AI芯片离不开HBM，一旦将HBM限…
所以，美国就联手日本、荷兰，对光刻机进行封堵，不准EUV光刻机卖给中国，后来更是不准高端的浸润式DUV光刻机卖给中国，为的就是限制中国芯片制造产业的发展。 一旦我们拥有了EUV光刻机，那么就意味着我们自己能…
快科技12月3日消息，光刻设备制造商ASML近日在其官网纪念品商城推出了一款特别的产品——High NA EUV光刻系统TWINSCANEXE:5000的乐高模型套装。 该模型的定价为227.95美元，约合…
12月3日消息，光刻设备制造商ASML近日在其官网纪念品商城推出了一款特别的产品——High NA EUV光刻系统TWINSCANEXE:5000的乐高模型套装。 该模型的定价为227.95美元，约合…
TWINSCAN EXE:5000 光刻机是首款采用 0.55NA 数值孔径的光刻机，其分辨率达 8nm，成像对比度较此前的 NXE 系列0.33NA EUV 系统高 40%，支持 2nm 逻辑节点图案化…
12 月 2 日消息，ASML 在官网纪念品商城上架了一款特殊的产品：世界首型 High NA EUV 光刻系统 TWINSCANEXE:5000 的乐高模型套装。 Rick Lenssen 此前…
但蔡司的这套系统，只供货给ASML，想要山寨EUV光刻机，不仅需要了解所有零件，还需要造出所有零件的替代品，很明显有些根本就造不出来，所以怎么山寨？ 其实大家想一想就明白了，如果山寨这么容易，我们根本就不需…
当时英特尔是芯片霸主，地位很超然，根本就不愁钱，拿出了数十亿美元，然后和这些实验室们，大约花了4年时间，把EUV光刻机研发了出来，不过不是规模生产，只是搞出了一个模型，但这个模型从理论研究，到论证，基本上都…
NRD-K 半导体研发综合体占地面积 10.9 万平方米，将成为三星电子 DS 部下属三大事业部（存储器、系统 LSI 和Foundry）的共同核心研发基地，到 2030 年这一项目将累计获得约 20 万…
11 月 15 日消息，《日本经济新闻》当地时间今日凌晨报道称，日本先进半导体代工企业 Rapidus 购入的第一台 ASML EUV光刻机将于 2024 年 12 月中旬抵达北海道新千岁机场，这…
11 月 12 日消息，据韩国产业通商资源部官网新闻稿，半导体光刻胶巨头日本 JSR 今日在韩国忠清北道清州举行MOR（注：金属氧化物）光刻胶生产基地的奠基仪式。 该生产基地由 JSR 在…
对此，美国商务部标准与技术副部长兼国家标准与技术研究所所长Laurie Locascio 表示，凭借20年培育有效公私合作伙伴关系的经验，以及自成立以来在半导体研发、制造和人才发展方面投资超过250 亿美元…
11 月 4 日消息，TechInsights 在当地时间 10 月 24 日的分析中表示，每台 ASML 0.33 NA EUV光刻机的功耗就已经达到了 1170 kW，而 0.55NA (Hi…
11 月 1 日消息，据美国商务部当地时间昨日新闻稿，该部门与美国《CHIPS》法案美国国家半导体技术中心 NSTC 项目运营商Natcast 宣布在纽约州立大学奥尔巴尼纳米技术中心建设首个《CH…
据报道，三星电子决定在2025年初引进其首台ASML High NA EUV光刻机，并与英特尔、台积电展开下代光刻技术商业化研发竞争。此前，三星电子与比…
10 月 30 日消息，韩媒 ETNews 当地时间昨日报道称，三星电子已决定 2025 年初引进其首台 ASML High NAEUV 光刻机，正式同英特尔、台积电展开下代光刻技术商业化研发竞争…
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