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专题

SK海力士斥资80亿美元从ASML韩国购买EUV光刻机

03/24

美光确认HBM4E基于1γDRAM，未来1δ工艺采最新EUV光刻机

03/20

ASML向imec交付High NA EUV光刻机，为NanoIC提供设备基础

03/20

ASML向imec交付High NA EUV光刻机，为NanoIC提供设备基础

03/19

ASML向imec交付High NA EUV光刻机，为NanoIC提供设备基础

03/19

最火的芯片研究机构！SemiAnalysis创始人：算力瓶颈从CoWoS转移到EUV，存储吃掉30%资本开支

03/16

和誉-B(02256.HK)：《柳叶刀》(The Lancet)发布贝捷迈®全球III期MANEUVER研究结果

03/10

和誉-B(02256.HK)：《柳叶刀》(The Lancet)发布贝捷迈®全球III期MANEUVER研究结果

03/09

和誉-B(02256.HK)：《柳叶刀》(The Lancet)发布贝捷迈®全球III期MANEUVER研究结果

03/09

和誉-B(02256.HK)：《柳叶刀》(The Lancet)发布贝捷迈®全球III期MANEUVER研究结果

03/09

和誉-B(02256.HK)：《柳叶刀》(The Lancet)发布贝捷迈®全球III期MANEUVER研究结果

03/09

不止EUV光刻机：阿斯麦ASML计划进军先进封装赛道，深耕AI芯片设备

不止EUV光刻机：阿斯麦ASML计划进军先进封装赛道，深耕AI芯片设备

03/03

“关键里程碑”，阿斯麦：新一代EUV光刻机已准备好量产芯片

“关键里程碑”，阿斯麦：新一代EUV光刻机已准备好量产芯片

02/27

消息称阿斯麦新一代EUV光刻机已具备量产条件，造价约4亿美元

消息称阿斯麦新一代EUV光刻机已具备量产条件，造价约4亿美元

02/27

消息称阿斯麦ASML新一代EUV光刻机已具备量产条件，单台成本约4亿美元

02/27

美股异动｜阿斯麦EUV光源新突破或将芯片产量提升50%，晶圆代工龙头盘前走强

02/24

芯片产出速度提升50%！ASML取得关键突破，EUV光刻实现千瓦级跃迁

02/24

美股异动｜阿斯麦EUV光源新突破或将芯片产量提升50%，晶圆代工龙头盘前走强

02/24

ASML计划将EUV光源功率提至1000W：2030年每小时晶圆产量可提升50%

02/24

报道：ASML揭秘EUV光源突破，2030年芯片产量有望提升50%

02/24

阿斯麦ASML公布EUV光源技术突破，2030年芯片产能或提升50%

阿斯麦ASML公布EUV光源技术突破，2030年芯片产能或提升50%

02/24

阿斯麦：预计到2030年EUV光刻机每小时晶圆产量可增加50%

02/24

阿斯麦ASML公布EUV光源技术突破，2030年芯片产能或提升50%

02/24

南大光电(300346.SZ)：宁波南大光电材料有限公司ArF光刻胶产能为50吨/年，未实施扩产，未建设EUV光刻胶产线

02/10

三星美国泰勒晶圆厂3月测试EUV光刻机，加速2nm GAA工艺部署

01/20

Intel 18A芯片厂揭秘：已有4台EUV光刻机月产4万片晶圆

Intel 18A芯片厂揭秘：已有4台EUV光刻机月产4万片晶圆

12/25

阿斯麦EUV光刻机实现纳米孔全晶圆级制造，推动分子传感技术发展

阿斯麦EUV光刻机实现纳米孔全晶圆级制造，推动分子传感技术发展

12/22

阿斯麦EUV光刻机实现纳米孔全晶圆级制造，推动分子传感技术发展

12/22

可替代EUV光刻机工艺直逼1.4nm 日本开发全新纳米压印技术

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12/19

全球最先进！Intel安装首套二代High-NA EUV：为14A铺平道路

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12/18

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