据路透社报道，中国台湾经济部10月12日表示，中国大陆新推出的稀土出口管制政策将对岛内的芯片产业“没有重大影响”。

10月9日，中国商务部发布公告，宣布对含有中国成分的部分境外稀土相关物项（价值比例达到0.1%及以上的，包括原产于中国的以及境外利用中国技术、设备生产的稀土）实施出口管制。同时，还宣布对部分稀土设备和原辅料相关物项实施出口管制。

首先是一些光电芯片、射频芯片等新型芯片与器件，会用到钪、钕、铕、铥、铒、镱、铕和铽等稀土元素。

比如，钪会被用于制备铝钪氮(AlScN)压电薄膜，这是5G射频BAW滤波器的核心材料，能显著提升滤波器的性能和频率稳定性。在光电器件方面，铒用于掺铒光纤放大器(EDFA)，是长距离通信的中继器；镱常用于增强激光器的泵浦效率；铥则用于特定波长的激光器；钕是制造高功率激光器的关键增益介质；铕和铽也是重要的发光材料激活离子，用于显示和照明。

其次，在半导体制造工艺方面，也会使用到铈、钇、钪、铕等稀土元素。

比如，在化学机械抛光（CMP）环节，二氧化铈是晶圆表面平坦化工艺的关键研磨剂，能实现高精度抛光；在先进制程晶体管栅极制造过程中，会向高介电材料中添加氧化钪等，以优化性能，降低漏电流；在光刻胶研发方面，铕的配合物被研究用于极紫外（EUV）光刻胶，以增强对极紫外光的吸收和图案分辨率。

第三，在半导体设备本身也会用到钕、钇、铥、镝、铽等稀土元素。比如，在刻蚀工艺保护方面，刻蚀机腔体内壁采用氧化钇陶瓷涂层，抵御强腐蚀性等离子体，延长设备寿命；光刻机、离子注入机等设备的纳米级精度运动平台，依赖钕铁硼永磁体提供强磁场和驱动力；晶圆检测与对准系统使用钕掺杂的YAG激光器；EUV光刻机会使用铽镓石榴石作为光学隔离器的核心材料，保护激光器；目前一些前沿研究也探索用铥激光器提升EUV光源效率。

资料显示，除了一些光电芯片、射频芯片等新型芯片与器件，会用直接用到稀土材料之外，化学机械抛光、先进制程晶体管栅极制造、EUA光刻胶研发制造等方面，也会使用到稀土元素。 此外，一些刻蚀设备的腔体涂层，光刻机、离子注入机等设备的纳米级精度运动平台，也依赖于钕铁硼永磁体提供强磁场和驱动力。EUV光刻机会使用铽镓石榴石作为光学隔离器的核心材料，保护激光器。

《纽约时报》也报道称，在过去的几年里，英伟达和其他半导体制造商改变了芯片上电力管理设备中使用的材料，称为电容器，以使其更耐热。而这些电容器就使用了超纯镝，即使在变热时也能保持磁稳定性。目前，中国提炼了世界上 99% 的镝。

鉴于中国大陆在全球稀土材料市场的垄断性供应地位，这也意味着诸多的芯片制造商可能都离不开中国的稀土材料，从而会受到中国大陆的出口管制政策的影响。

《纽约时报》表示，中国的稀土出口管制新规将要求大多数芯片生产企业获得出口许可证才能在世界任何地方销售。这意味着它们可以适用于生产世界上大部分先进逻辑芯片的台积电，以及韩国存储芯片制造商 SK 海力士和三星等公司。此外，还有报道称，ASML和TEL等半导体设备供应商也将处于该管制之中。

对此，中国台湾经济部本周日表示，中国对稀土的新限制措施预计不会对中国台湾半导体产业产生重大影响，因为稀土与芯片行业所需的金属不同。

中国台湾经济部在一份声明中表示，中国大陆扩大禁令所涵盖的稀土元素与中国台湾半导体工艺所需的稀土项目不同，因此目前预计不会对芯片制造产生重大影响。但可能会影响电动汽车和无人机等产品的全球供应链，并补充说需要密切关注其影响。

该声明还补充说，中国台湾半导体产业需要的含有稀土的产品或衍生物主要来自欧洲、美国和日本。

编辑：芯智讯